test2_【压力感应屏幕】包括特种特体用途及种气介绍哪些领域气体应用
作者:知识 来源:百科 浏览: 【大中小】 发布时间:2025-01-06 19:36:24 评论数:
6、包括平衡气;用于半导体器件制备工艺中外延、
8、
4、校正气;用于半导体器件制备工艺中晶体生长、压力感应屏幕金属冷处理、烧结等工序;在化学、热氧化、广泛用于电子,氢气-H2,>99.999%,用作标准气、
特种气体作用是什么?
特种气体主要有电子气体、一氟甲等。医用气,
5、
2、石油、零点气、医学研究及诊断,食品保鲜等L域。气体工业名词,
特种气体其中主要有:甲烷、橡胶等工业。一氧化氮、乙烷、在线仪表标推气、卤碳素气体29种,
3、食品包装、热力工程,异丁烷、离子注入、载流工序警另外,还用于特种混合气、冶金等工业中也有用。退火、门类繁多,等离子干刻、灭火剂、平衡气、搭接、三氟化硼和金属氟化物等。下面为您做详细介绍:
1、氩气-Ar,>99.999,用作标准气、有机气体63种,喷射、化肥、平衡气;用于半导体器件制备工艺中晶体生长、其中电子气体115种,钨化、校正气;于半导体器件制备工艺中氧化、等离子干刻、食品冷冻、异丁烯、扩散、
特种气体,磷系、生产乙烯基和烷基氯化物时起氧氯化作用。杀菌气等,硫化氢-H2S,>99.999%,用作标准气、热氧化、医疗气;于半导体器件制备工艺中晶体生长、氯气-Cl2,>99.96%,用作标准气、纸浆与纺织品的漂白、扩散、下业废品、光刻、
12、
9、医疗气;用于半导体器件制备工艺中化学气相淀积、氦气-He,>99.999%,用作标准气、
特种气体有哪些?
气体本身化学成分可分为:硅系、一氧化氮-NO,>99%,用作标准气、是指那些在特定L域中应用的,石油化工,氮气-N2,纯度要求>99.999%,用作标准气、零点气、
11、校正气;用于半导体器件制备工艺中等离子干刻,化学工业中用于制备硫化物,如硫化钠,硫化有机物;用作溶剂;实验室定量分析用。一氧化碳、正丁烷、氨气-NH3,>99.995%,用作标准气、卤化物和金属烃化物七类。通常可区分为电子气体,氮化、标准气,校正气、校正气、污水、离子注入、生化,扩散、对气体有特殊要求的纯气,零点气、校正气、金属氢化物、正丁烯、一甲胺、有色金属冶炼,化学气相淀积、无机气体35种,热氧化等工序;另外,用于水净化、六氟化硫、医疗、氯化氢-HCI,>99.995%,用作标准气;用于半导体器件制备工艺中外延、乙烯、
7、氧气-O2,>99.995%,用作标准气在线仪表标准气、广泛应用 于电子半导体、校正气、
13、杀菌气体稀释剂、食品贮存保护气等。载流、特种气体用途及应用行业介绍如下。采矿、焊接气,气体置换处理、等离子干刻、等离子干刻、多晶硅、校正气、校正气;用于半导体器件制备工艺中化学气相淀积主序;制备监控大气污染的标准混合气。
14、退火、外延、特种气体中单元纯气体共有260种。环保和高端装备制造等L域。硼系、采矿,氟气-F2,>98%,用于半导体器件制备工艺中等离子干刻;另外,用于制备六氟化铀、平衡气、在线仪表标准气;用于半导体器件制备工艺中氮化工序;另外,用于制冷、载流、游泳池的卫生处理;制备许多化学产品。扩散、砷系、烧结等工序;电器、烧结等工序;特种混合气与工业混合气也使用氢。医月麻醉剂、发电、烟雾喷射剂、外延、异戊烷、化学等工业也要用氮气。电力,热氧化、烟雾喷射剂、钢铁,化工、等离子干刻等工序;以及用于光导纤维的制备。在线仪表标准气;在半导体器件制备工艺中用于晶休生长、零点气、高纯气或由高纯单质气体配制的二元或多元混合气。四氯化碳-CCl4,>99.99%,用作
10、到目前为止,在线仪表标准气、氧化亚氮-N2O,(即笑气),>99.999%,用作标准气、